2026-05-08 04:08:36
国家知识产权局信息显示,武汉思创精密激光科技有限公司申请一项名为“一种电机的壳体的激光清洗方法和激光清洗设备”的专利,公开号CN121911694A,申请日期为2026年2月。
专利摘要显示,本发明涉及一种电机的壳体的激光清洗方法和激光清洗设备,电机的壳体的激光清洗方法包括以下步骤:S1,使所述电机绕自身轴线旋转至少一周,利用测距传感器对所述电机的壳体进行测距扫描采样,得到测距数据;S2,根据所述测距数据生成位置调节机构的运动轨迹;S3,按照所述位置调节机构的运动轨迹对所述电机的壳体进行激光清洗。本发明通过预扫描获取电机的壳体实际轮廓,生成针对单个电机的个性化轨迹,避免了因电机装夹偏差或个体差异导致的焦距失准问题。同时,由于清洗阶段不再依赖实时测距,彻底消除了激光清洗过程中强散射光对测距传感器的干扰,保证了系PG电子统的稳定性和清洗一致性。
天眼查资料显示,武汉思创精密激光科技有限公司,成立于2018年,位于武汉市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本4350万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉思创精密激光科技有限公司参与招投标项目3次,财产线条,此外企业还拥有行政许可2个。
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